美國在出口管制上又有新的舉措。
據(jù)報(bào)道，1月28日,，美國,、荷蘭和日本就限制向中國出口先進(jìn)芯片制造設(shè)備達(dá)成協(xié)議,，其中將會(huì)涉及ASML,、尼康、東京電子等企業(yè)的設(shè)備產(chǎn)品,。
虎嗅向半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士,、從事出口管制方面的律師求證，證實(shí)了該消息,。迄今為止,，美國、日本和荷蘭政府尚未對(duì)具體細(xì)節(jié)進(jìn)行公布,。
1月30日,，在光刻機(jī)巨頭阿斯麥（NASDAQ:ASML）向虎嗅提供的一份官方聲明中確認(rèn)，幾國政府間就達(dá)成一項(xiàng)側(cè)重于先進(jìn)制程芯片制造技術(shù)的協(xié)議有了最新進(jìn)展,，其中將包括但不限于先進(jìn)制程的光刻系統(tǒng),。
ASML的聲明中提及，在這項(xiàng)協(xié)議生效之前,，必須詳細(xì)說明并落實(shí)到立法中,，這需要時(shí)間。其在中國的業(yè)務(wù)以成熟制程為主,。
目前,，尚無法就細(xì)節(jié)以及新的出口管制規(guī)則對(duì)中期和長期財(cái)務(wù)、組織和全球行業(yè)的影響發(fā)表任何聲明,?；谡賳T的聲明、立法進(jìn)程時(shí)間表,、不同條款的生效日期,，加之目前的市場形勢(shì)，ASML預(yù)計(jì)這些措施不會(huì)對(duì)其發(fā)布的2023年預(yù)期產(chǎn)生實(shí)質(zhì)性影響,。
在這項(xiàng)新的協(xié)議中,，最大的變化莫過于,，對(duì)華的出口管制，從原來的EUV光刻機(jī)擴(kuò)展到浸潤式光刻機(jī)（DUV）,。
這項(xiàng)新的協(xié)議將會(huì)對(duì)中國半導(dǎo)體產(chǎn)生什么影響,？又該如何應(yīng)對(duì)？
可能發(fā)生的新變化
ASML的光刻機(jī)有四大類,，一種是EUV,，也就是極紫外光刻機(jī)，用于生產(chǎn)7nm制程及以下的芯片,；第二類是用于生產(chǎn)制程在7nm及以下制程的最新型浸潤式光刻機(jī),；第三種是用于生產(chǎn)制程在40nm／28nm／14nm／7nm的浸潤式光刻機(jī)；第四種就是生產(chǎn)55nm及以上制程的干式光刻機(jī),。
業(yè)界證實(shí)，目前對(duì)于第一類和第二類的光刻機(jī)大概率會(huì)被禁運(yùn),，成熟制程的芯片生產(chǎn)不會(huì)受到影響,。
目前，除了ASML,，日本尼康也能夠量產(chǎn)用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤式光刻機(jī),。
一位半導(dǎo)體研發(fā)專家表示，如果浸潤式光刻機(jī)禁運(yùn),，那么對(duì)于已有機(jī)臺(tái)也會(huì)受到影響,，主要的影響集中在光源以及關(guān)鍵零件的更換上，最新型號(hào)的浸潤式光刻機(jī)能夠提供更大制程的寬度以及提升良率,。
美國的供應(yīng)鏈話語權(quán)
多位業(yè)內(nèi)人士都表達(dá)了一個(gè)觀點(diǎn),，如今已很難用正常的商業(yè)手段去看待美國的出口管制，而已經(jīng)是大國博弈的視角,。這一點(diǎn),，從這一次美國是直接與日本和荷蘭政府談判，而不是與企業(yè)談判就可見一斑,。
一直以來,，美國通過技術(shù)、市場和金融控制的方式獲得在供應(yīng)鏈中的話語權(quán),，這也使得諸多半導(dǎo)體企業(yè)不得不順應(yīng)美國的要求,。
如果細(xì)究ASML公司的股權(quán)結(jié)構(gòu)可以發(fā)現(xiàn)，有50%的股權(quán)資本控制來自美國,。而拆解ASML光刻機(jī)后也會(huì)發(fā)現(xiàn),，其中的大部分關(guān)鍵零部件來自美國的供應(yīng)商。
根據(jù)李巍,、李玙譯一篇刊登于《外交評(píng)論》的文章,，《解析美國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)霸權(quán)：產(chǎn)業(yè)權(quán)力的政治經(jīng)濟(jì)學(xué)分析》中提及在阿斯邁的EUV光刻機(jī)中,，有55%使用了美國的零部件。
而在技術(shù)上,，美國也掌握了半導(dǎo)體技術(shù)鏈的主要環(huán)節(jié),。其在芯片制造設(shè)備、電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化（EDA）以及知識(shí)產(chǎn)權(quán)核（IP）等方面占據(jù)了絕對(duì)的優(yōu)勢(shì)地位,。這使得整個(gè)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈無法繞過美國順利運(yùn)轉(zhuǎn),。
數(shù)據(jù)來源：彭博終端／《解析美國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)霸權(quán)：產(chǎn)業(yè)權(quán)力的政治經(jīng)濟(jì)學(xué)分析》
在金融控制上，“目前,，共有88家注冊(cè)地點(diǎn)位于非美國本土的半導(dǎo)體企業(yè)通過間接托管和直接發(fā)行股票的方式在美國紐約證券交易所,、納斯達(dá)克證券交易所上市，或通過美國場外交易市場籌集資金 ,。”上述文章中提及,，“這些半導(dǎo)體企業(yè)在美國上市，意味著它們不僅要接受美國明面上的監(jiān)管規(guī)則,，也要接受一些‘潛規(guī)則’”,。
當(dāng)然，大國博弈始終是一個(gè)動(dòng)態(tài)的過程,，各國的聯(lián)盟也非鐵板一塊,。在ASML的聲明中也表示，在這些規(guī)則最終被確認(rèn)的同時(shí),，ASML將繼續(xù)與當(dāng)局溝通,，告知任何擬議規(guī)則的潛在影響，以評(píng)估對(duì)全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的影響,。
中國能怎么辦,？
“如果用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤式光刻機(jī)被禁運(yùn)，那么其他機(jī)型用于生產(chǎn)28nm／14nm制程的芯片問題都不大,。”
上述半導(dǎo)體研發(fā)專家表示,。而如果是最差的情況，所有浸潤式光刻機(jī)都被禁運(yùn)的話,，那么用干式光刻機(jī)生產(chǎn)55nm制程的芯片是沒有問題的,，如果要生產(chǎn)40nm制程的芯片，使用雙重曝光技術(shù),，干式光刻機(jī)也可以完成生產(chǎn),。
“糾結(jié)在光刻機(jī)的制程我認(rèn)為沒有意義。”一位在半導(dǎo)體界從業(yè)多年的高管表示,，“我們更關(guān)注的是如何用現(xiàn)有的兵器,，達(dá)到器件上的最優(yōu)。”也就是說,，通過工藝,、參數(shù),、架構(gòu)上的創(chuàng)新，達(dá)到更好的良率,、性能和功耗,。
中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)集成電路設(shè)計(jì)分會(huì)理事長魏少軍在12月29日“2022中國（深圳）集成電路峰會(huì)”的演講中也表達(dá)了類似的觀點(diǎn)，中國產(chǎn)業(yè)原來發(fā)展的重點(diǎn)比較多地放在聚焦很先進(jìn)的科技工藝,。
但到了后面,，可能需要轉(zhuǎn)向那些對(duì)工藝和EDA工具不強(qiáng)敏感的芯片研發(fā)技術(shù)，同時(shí)更聚焦目標(biāo)導(dǎo)向和問題導(dǎo)向,，提升成熟工藝的性能,、功耗和尺寸，這是在別人限制中國的前提下,，所做的無奈之舉,。
而新器件、新材料,、新工藝和芯片架構(gòu)創(chuàng)新將是主要的發(fā)力方向,。“之前人們把能做7nm設(shè)計(jì)作為高水平的標(biāo)志，事實(shí)上,，能夠用14nm、28nm做出7nm的性能,，才是真正的高手,。”魏少軍在演講上說。
文章出處：虎嗅網(wǎng)
