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掌握EUV光刻核心技術:日本自研2nm越來越穩(wěn)了

   日期:2023-04-10     來源:快科技    作者:浪客劍    瀏覽:57    違規(guī)舉報
 
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4月10日消息,,據(jù)報導,,日本經濟產業(yè)省正在敲定計劃,將額外向日本新成立的晶圓制造商Rapidus提供3,000億日元(約22.7億美元)補貼 ,,用以在日本北海道興建半導體廠,。

消息來源指出,這筆額外注資將協(xié)助Rapidus建造原型產線,,預計2025年正式投產,。

資料顯示,Rapidus于2022年8月成立,,由豐田,、Sony、NTT,、NEC,、軟銀(Softbank)、電裝(Denso),、NAND Flash大廠鎧俠(Kioxia),、三菱UFJ等8家日企共同出資設立,出資額各為73億日圓,,且日本政府也將提供700億日圓補助金,、作為其研發(fā)預算,。目標是在5年后的2027年開始量產2nm先進制程芯片。

Rapidus計劃國產化的對象為使用于自動駕駛,、人工智能(AI)等用途的先進邏輯芯片,。

今年2月底,Rapidus已宣布將在日本北部島嶼北海道的千歲市建造一座2nm晶圓代工廠,。

Rapidus公司發(fā)言人表示,,Rapidus 預計用于商業(yè)生產和 2nm 技術發(fā)展的投資將達到約 5 萬億日元(約合人民幣2555億元)。

Rapidus董事長東哲郎此前在接受專訪時曾表示,,為了打造最先進芯片制造產線,,力拼在2030年前年進行量產,預計有必要投資7萬億日元(約合人民幣3670.7億元,,540億美元)左右資金,,才能在2027年左右量產。顯然,,之前8家參股企業(yè)以及日本政府提供的補貼資金遠遠不夠,。

需要指出的是,去年12月13日,,Rapidus宣布已和IBM達成戰(zhàn)略性伙伴關系,、將攜手研發(fā)次世代半導體(2nm芯片)。Rapidus和IBM將攜手推動IBM突破性的2nm節(jié)點技術的研發(fā),、并將導入于Rapidus位于日本國內的生產據(jù)點,。

除了合作研發(fā)先進制程之外,Rapidus,、IBM也將在量產,、銷售面上建構互補的合作機制,藉此確保最先進芯片的供應,,而IBM超級電腦用芯片將委托Rapidus生產,。

雖然日本沒有先進的晶圓廠,但他們在先進工藝的上游有很重要的布局,,包括持有全球市場100%份額EUV光罩測試機制造商Lasertec,、占據(jù)100%市場份額的是東京電子的EUV涂覆顯影設備、全球僅有日本廠商研發(fā)出了EUV光刻膠以及傳統(tǒng)光刻機設備等,。

掌握EUV光刻核心技術:日本自研2nm越來越穩(wěn)了


文章出處:芯智訊

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